Oddelenie environmentálnej fyziky - Prihlásený: student
Katedra astronómie, fyziky Zeme a meteorológie, FMFI UK, Bratislava,

In situ monitoring of plasma etching and deposition by using the gas pressure difference

Trnovec J., Martišovitš V., Košinár I., Juráni R.
12th International Symposium on Plasma Chemistry, Mineapolis, USA, August 21-25, p. 379-384 (1995)

požiadaj o kópiu 

Abstrakt:

Citácie:

1.)	Mozetic, M. - Drobnic, M. : Vacuum, Vol. 50, 1998, No. 3-4,. p. 319-322 - SCI (1998) -------------